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高純水對許多工業(yè)和商業(yè)項目非常重要，如半導(dǎo)體制造和制藥工業(yè)。

在過去，工業(yè)用純凈水是通過離子交換獲得的。

然而，膜系統(tǒng)和膜處理工藝作為預(yù)處理工藝或離子交換系統(tǒng)的替代品正變得越來越受歡迎。

電脫鹽(EDI)等膜系統(tǒng)可以清潔地去除礦物質(zhì)并連續(xù)工作。

此外，膜處理工藝在機(jī)械上比離子交換系統(tǒng)簡單得多，不需要酸堿再生和廢水中和。

EDI工藝是膜處理中發(fā)展快的業(yè)務(wù)之一。

EDI有一個特殊的水槽，其中液體流動通道充滿了混合床離子交換樹脂。

EDI主要用于從水源中制取8-17萬億歐姆的純水，總固溶度(TDS)為1-20mg/L。

EDI裝置將離子交換樹脂夾在陰離子交換膜和陽離子交換膜之間，形成EDI單元。

在EDI組件中，一定數(shù)量的EDI單元通過網(wǎng)絡(luò)分隔，形成一個集中的水室。

負(fù)極/正極設(shè)置在單元組的兩端。

在直流電的驅(qū)動下，淡水室中的陰離子和陽離子通過陰離子和陽離子交換膜流入濃水室，并在淡水室中除去。

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通過濃縮室的水將離子從系統(tǒng)中帶走，變成濃水。

EDI設(shè)備一般采用反滲透(RO)純水作為EDI供水。

RO純水的電阻率一般為40-2 μ S / cm(25℃)。

EDI純水的電阻率可高達(dá)18 M Ω·cm(25℃)，但根據(jù)去離子水的使用和系統(tǒng)配置，EDI純水適用于制備電阻率為1-18.2 M Ω·cm(25℃)的純水。

EDI裝置的特點是EDI裝置不需要化學(xué)再生，可以連續(xù)運行，從而消除了傳統(tǒng)水處理工藝中混合離子交換設(shè)備再生所需的酸堿，以及再生過程中排放的廢水。

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通常為單級反滲透或兩級反滲透水。

TEA(總可交換陰離子，以CaCO3計算):< 25ppm。

電導(dǎo)率:< 40 μ S / cm。

PH值:6.0 ~ 9.0。

當(dāng)總硬度低于0.1ppm時，EDI的佳pH范圍為8.0 ~ 9.0。

溫度:5-35℃。

進(jìn)水壓力:< 4bar (60psi)。

硬度:(以CaCO3計):< 1.0ppm。

有機(jī)質(zhì)(TOC): < 0.5ppm。

氧化劑:Cl2 < 0.05 ppm < O3 < 0.02ppm。

可變價金屬:Fe < 0.01 ppm < mn < 0.02ppm。

H2S: < 0.01ppm。

二氧化硅:< 0.5ppm。

色度:< 5APHA。

總二氧化碳:< 10ppm。

SDI 15min: < 1.0。

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