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蒸發(fā)鍍膜一般是加熱靶材使表面組分以原子團或離子形式被蒸發(fā)出來。并且沉降在基片表面，通過成膜過程（散點－島狀結(jié)構(gòu)-迷走結(jié)構(gòu)-層狀生長）形成薄膜。?
對于濺射類鍍膜，可以簡單理解為利用電子或高能激光轟擊靶材，并使表面組分以原子團或離子形式被濺射出來，并且終沉積在基片表面，經(jīng)歷成膜過程，終形成薄膜。
在光學(xué)薄膜的尺度上看（也就是1/10波長作為單位，約為100A），真空鍍膜的均勻性已經(jīng)相當好，可以輕松將粗糙度控制在可見光波長的1/10范圍內(nèi)，也就是說對于薄膜的光學(xué)特性來說，真空鍍膜沒有任何障礙。?
濺射鍍膜中的激光濺射鍍膜pld，組分均勻性容易保持，而原子尺度的厚度均勻性相對較差（因為是脈沖濺射），晶向（外沿）生長的控制也比較一般。
裝飾真空鍍膜設(shè)備是蒸發(fā)式鍍膜裝置，在真空室中利用電阻加熱法，將緊貼在電阻絲上的金屬絲（鋁絲）熔融汽化，汽化了金屬分子沉積于基片上，而獲得光滑高反射率的膜層，達到裝飾美化物品表面的目的。
該設(shè)備具有：結(jié)構(gòu)合理，膜層均勻、成膜質(zhì)量好、抽速大、工作同期短、生產(chǎn)、操作方便，能耗低性能穩(wěn)定等優(yōu)點。廣泛應(yīng)用于汽車、音響、各類小家電、電腦、鐘表、玩具、手機、反光杯、化妝品、玩具等行業(yè)。
可加工的材料包括：ABS、PS、PP、PC、PVC、尼龍、金屬、波麗、玻璃、陶瓷、TPU等。
鍍制效果有：普通電鍍亮面、啞面（半啞、全?。?、工藝電鍍皺紋、拉絲、雨滴、七彩等；鍍制顏色有：金、銀、紅、藍、綠、紫、七彩等等。
1）所需設(shè)備：CCZK-1350-OGS光學(xué)電子槍鍍膜設(shè)備
2）獲得膜層：多層化合物膜層，超硬防水膜層，防指紋膜層，彩色膜層
3）涂裝流程：玻璃產(chǎn)品的前處理清洗----烘箱烘干-----真空鍍膜----成品包裝
4）基本配置：
腔體結(jié)構(gòu)：D1350MM*H1350MM 立式單開門
腔體材質(zhì)：304不銹鋼
轉(zhuǎn)動方式：公自轉(zhuǎn)結(jié)合，穹頂行星式轉(zhuǎn)架
蒸發(fā)電源：SCR可控硅+大功率蒸發(fā)變壓器
蒸發(fā)阻源：3組
電 子 槍：E型電子槍，磁偏轉(zhuǎn)270°
坩 ? ?堝：可旋轉(zhuǎn)多孔位坩堝
所屬分類：設(shè)備回收/工廠設(shè)備回收
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