Gemini 物鏡的設(shè)計(jì)結(jié)合了靜電場(chǎng)與磁場(chǎng)， 在提升光學(xué)性能的同時(shí)將它們對(duì)樣品的影 響降至低。因此，即便是要求苛刻的樣 品 —— 如磁性材料，也能進(jìn)行成像。 在 Gemini 鏡筒設(shè)計(jì)理念中， Inlens 用二次 電子( SE ) 和背散射電子( BSE ) 探測(cè)器來 確保的信號(hào)檢測(cè)。

Inlens 探測(cè)器均放置 在鏡筒內(nèi)正光軸上， 在減少重新校準(zhǔn)耗時(shí) 的同時(shí)有效地縮短了獲取圖像的時(shí)間。 Gemini 電子束推進(jìn)器技術(shù)可以在非常 低的加速電壓下仍獲得小束斑和高信噪比。
此外， 它確保了電子束在鏡筒中運(yùn)動(dòng)時(shí)始 終保持高加速電壓， 直至出鏡筒后才減速 至設(shè)定電壓， 更大程度地減小外部雜散磁 場(chǎng)對(duì)系統(tǒng)靈敏度的影響。GeminiSEM 360 、 GeminiSEM 460 和 GeminiSEM 560 三 者 均 應(yīng)用了 Gemini 設(shè)計(jì)、 Inlens 探測(cè)器和電子 束推進(jìn)器技術(shù)。

充分發(fā)揮 Gemini 2 型光學(xué)系統(tǒng)的性能優(yōu)勢(shì)
GeminiSEM 460 的 特 殊 之 處 在 于 配 備 的 Gemini 2 型光學(xué)系統(tǒng)主要運(yùn)用了雙聚光鏡， 在獲得理想的小電子束斑同時(shí)可連續(xù)調(diào)節(jié)束 流。這使高電子束能量密度下的低束流高分 辨率成像和高束流分析得到了。此外， 您也可以在不同的成像模式之間進(jìn)行無縫切 換或更改成像參數(shù)。此操作簡(jiǎn)便快速，因?yàn)?在更改成像參數(shù)后無需進(jìn)行校準(zhǔn)，而且經(jīng)調(diào) 校的掃描電鏡可以保持穩(wěn)定地工作。

分辨率模式
在高分辨率電子槍模式下， 電子束色差降低， 從而實(shí)現(xiàn)更小的束斑。
在樣品臺(tái)減速技術(shù)模式下， 為樣品施加減 速電壓。該減速電壓可進(jìn)一步提高 1 kV 以 下的圖像分辨率并增強(qiáng)背散射探測(cè)器的檢 測(cè)效率。

背散射電子產(chǎn)生于樣品表面之下，可提供 樣品材質(zhì)成分的襯度信息。背散射電子通 常以與入射電子束成 15 度角的圓錐狀出 射， 被 Gemini 鏡筒電子束推進(jìn)器吸入后射 到鏡筒內(nèi)。由于二次電子( SE ) 與背散射 電子( BSE ) 具有不同的能量，它們會(huì)在電 子束推進(jìn)器內(nèi)產(chǎn)生不同軌跡。

在工業(yè)質(zhì)量、失效分析或研究環(huán)境中，由于掃描電子顯微鏡 可提供高分辨率成像和高空間分辨率元素化學(xué)信息，所以它
是金相學(xué)和失效分析應(yīng)用的理想之選。

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