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所在地 | 廣東深圳光明新區(qū)公明 |
11年
真空度低解決方法:清潔真空室內(nèi)的送鋁、蒸鍍裝置、冷卻系統(tǒng)、放卷、卷取裝置及導(dǎo)輥;檢查抽真空系統(tǒng);降低環(huán)境濕度。 ②薄膜釋放氣體 解決方法:薄膜預(yù)干燥;延長(zhǎng)抽真空時(shí)間。 ③噴鋁過多解決方法:提高車速;降低蒸發(fā)舟電流;降低送鋁速度。 ④蒸發(fā)舟內(nèi)有雜質(zhì) 解決方法:清潔蒸發(fā)舟及熱屏蔽板。 ⑤蒸發(fā)舟老化 解決方法:更換蒸發(fā)舟。 補(bǔ)充: 以上不知道有沒有幫助。鍍鋁發(fā)霧的問題我就不知道了,不好意思。 追問: 不好意思,我沒有說你才疏學(xué)淺的意思- -#,我意思說就像發(fā)黃的原因有:1, 真空度過低;延長(zhǎng)抽真空時(shí)間 2, 鍍膜時(shí)有其他放氣源影響鍍膜效果,比如夾具或膠紙 3,鍍膜時(shí)間過長(zhǎng);噴鋁過多 4,鍍膜電流過高
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抽空時(shí)間相同,而真空度偏低,這時(shí)候關(guān)閉主閥,如真空計(jì)指針很快下降,多數(shù)情況是真空室漏,應(yīng)先查出漏點(diǎn)。如真空計(jì)指針下降很慢,多數(shù)情況是真空機(jī)組抽氣能力不夠,查找真空泵及閥門看哪里出現(xiàn)泄漏,或是擴(kuò)散泵油污染或氧化;或前級(jí)管路密封不好,泵油不足;或泵油乳化,軸封漏油等。漏--分內(nèi)漏和外漏,較大的漏點(diǎn)可以用火焰法,利用氣流能使火焰偏離的原理,先抽上真空,比如用蠟燭或打火機(jī)在可疑點(diǎn)附近逐步查尋,會(huì)發(fā)現(xiàn)火苗向漏點(diǎn)偏移,則可找到漏點(diǎn)。查找小漏和微漏:利用在高真空狀態(tài)下電離管對(duì)某些氣體反應(yīng)敏感來檢漏,比如丙酮或乙醇,用醫(yī)用注射器向可疑的地方噴射丙酮或乙醇,噴到漏點(diǎn)時(shí),電離計(jì)的指針會(huì)有明顯擺動(dòng)。用這種方法檢漏一定要有耐心,一定要等到電離計(jì)的示值穩(wěn)定了--也就是真空機(jī)組的抽氣能力和漏率平衡了,然后再噴射。好是反復(fù)幾次,確認(rèn)漏點(diǎn)。內(nèi)漏多發(fā)生在有水冷套的設(shè)備上,查外漏沒有發(fā)現(xiàn)疑點(diǎn),但是卻有以下現(xiàn)象:機(jī)械泵的抽速明顯偏低、真空計(jì)示值低、機(jī)械泵油很快乳化、真空室內(nèi)的鐵基零部件明顯銹蝕。具備以上條件基本可以確定有內(nèi)漏。
1.在真空鍍膜機(jī)運(yùn)轉(zhuǎn)正常情況下,開動(dòng)真空鍍膜機(jī)時(shí),先開水管,工作中應(yīng)隨時(shí)注意水壓。
2.在離子轟擊和蒸發(fā)時(shí),應(yīng)特別注意高壓電線接頭,不得觸動(dòng),以防觸電。
3.在用電子槍鍍膜時(shí),應(yīng)在鐘罩外圍上鋁板。觀察窗的玻璃好用鉛玻璃,觀察時(shí)應(yīng)戴上鉛玻璃眼鏡,以防X射線侵害人體。
4.鍍制多層介質(zhì)膜的鍍膜間,應(yīng)安裝通風(fēng)吸塵裝置,及時(shí)排除有害粉塵。
5.易燃有毒物品要妥善保管,以防失火中毒。
6.酸洗夾具應(yīng)在通風(fēng)裝置內(nèi)進(jìn)行,并要戴橡皮手套。
7.把零件放入酸洗或堿洗槽中時(shí),應(yīng)輕拿輕放,不得碰撞及濺出。平時(shí)酸洗槽盆應(yīng)加蓋。
8.工作完畢應(yīng)斷電、斷水。
真空鍍膜加工中冷卻設(shè)備需要提供智能、穩(wěn)定的冷凍水,來確保真空鍍膜工藝中電鍍液的溫度恒定,所以會(huì)選擇使用水冷式冷水機(jī)來作為真空鍍膜加工冷卻設(shè)備。
一 真空鍍膜加工中冷卻設(shè)備冷水機(jī)的作用
真空鍍膜加工過程中,真空鍍膜機(jī)作為主要設(shè)備,工作過程中有高頻電流過程,電導(dǎo)會(huì)在反復(fù)過程中產(chǎn)生大量熱能并且集聚在一起,需要冷卻設(shè)備及時(shí)地進(jìn)行冷卻,避免設(shè)備部件損壞,影響使用壽命;另外,真空鍍膜電鍍液需要根據(jù)電鍍產(chǎn)品不同進(jìn)行溫度調(diào)節(jié),并保持相對(duì)恒溫,反復(fù)鍍膜會(huì)造成鍍液溫度升高,同樣需要冷卻設(shè)備來準(zhǔn)確地控制和穩(wěn)定電鍍液的溫度。在工業(yè)生產(chǎn)控溫中,根據(jù)真空鍍膜加工的實(shí)際需求,選用相應(yīng)規(guī)格的冷水機(jī)設(shè)備來進(jìn)行、穩(wěn)定的溫度控制調(diào)節(jié)是經(jīng)濟(jì)有效的解決方案。
真空蒸鍍金屬薄膜怎么樣?這個(gè)問題不能一概而論,要根據(jù)您的具體情況進(jìn)行分析。這里簡(jiǎn)單介紹一下真空蒸鍍金屬薄膜的特點(diǎn),供您參考。鍍鋁薄膜與鋁箔復(fù)合材料相比具有以下特點(diǎn):(1)大大減少了用鋁量,節(jié)省了能源和材料,降低了成本,復(fù)合用鋁箔厚度多為7~9pm,而鍍鋁薄膜的鋁層厚度約為0.05n左右,其耗鋁量約為鋁箔的1/140~1/180,且生產(chǎn)速度可高達(dá)450m/min。(2)具有優(yōu)良的耐折性和良好的韌性,很少出現(xiàn)針孔和裂口,無(wú)揉曲龜裂現(xiàn)象,因此對(duì)氣體、水蒸汽、氣味、光線等的阻隔性提高。(3)具有的金屬光澤,光反射率達(dá)到97%;且可以通過涂料
需要鍍膜的被稱為基片,鍍的材料被稱為靶材。 基片與靶材同在真空腔中。
蒸發(fā)鍍膜一般是加熱靶材使表面組分以原子團(tuán)或離子形式被蒸發(fā)出來。并且沉降在基片表面,通過成膜過程(散點(diǎn)-島狀結(jié)構(gòu)-迷走結(jié)構(gòu)-層狀生長(zhǎng))形成薄膜。 對(duì)于濺射類鍍膜,可以簡(jiǎn)單理解為利用電子或高能激光轟擊靶材,并使表面組分以原子團(tuán)或離子形式被濺射出來,并且終沉積在基片表面,經(jīng)歷成膜過程,終形成薄膜。
所屬分類:設(shè)備回收/工廠設(shè)備回收
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