需要鍍膜的被稱為基片，鍍的材料被稱為靶材。 基片與靶材同在真空腔中。
蒸發(fā)鍍膜一般是加熱靶材使表面組分以原子團(tuán)或離子形式被蒸發(fā)出來。并且沉降在基片表面，通過成膜過程（散點(diǎn)－島狀結(jié)構(gòu)-迷走結(jié)構(gòu)-層狀生長）形成薄膜。 對(duì)于濺射類鍍膜，可以簡(jiǎn)單理解為利用電子或高能激光轟擊靶材，并使表面組分以原子團(tuán)或離子形式被濺射出來，并且終沉積在基片表面，經(jīng)歷成膜過程，終形成薄膜。

1）所需設(shè)備：CCZK-1350-OGS光學(xué)電子槍鍍膜設(shè)備
　　2）獲得膜層：多層化合物膜層，超硬防水膜層，防指紋膜層，彩色膜層
　　3）涂裝流程：玻璃產(chǎn)品的前處理清洗----烘箱烘干-----真空鍍膜----成品包裝
　　4）基本配置：
　　腔體結(jié)構(gòu)：D1350MM*H1350MM 立式單開門
　　腔體材質(zhì)：304不銹鋼
　　轉(zhuǎn)動(dòng)方式：公自轉(zhuǎn)結(jié)合，穹頂行星式轉(zhuǎn)架
　　蒸發(fā)電源：SCR可控硅+大功率蒸發(fā)變壓器
　　蒸發(fā)阻源：3組
　　電 子 槍：E型電子槍，磁偏轉(zhuǎn)270°
　　坩 ? ?堝：可旋轉(zhuǎn)多孔位坩堝

懸浮式高真空卷繞式鍍膜機(jī)的卷繞控制要求的轉(zhuǎn)矩控制，以般采用直流驅(qū)動(dòng)，但是隨著交流驅(qū)動(dòng)技術(shù)的飛速發(fā)展，現(xiàn)在逐步采用交流永磁同步伺服電機(jī)或交流異步電機(jī)驅(qū)動(dòng)。丹佛斯FC302系列驅(qū)動(dòng)器具有伺服級(jí)的驅(qū)動(dòng)性能，驅(qū)動(dòng)交流異步電機(jī)也有實(shí)現(xiàn)平穩(wěn)的轉(zhuǎn)矩控制，為這個(gè)行業(yè)提供了一種易用的解決方案，用戶只需要設(shè)置幾個(gè)簡(jiǎn)單的參數(shù)，就能滿足實(shí)際生產(chǎn)需求，操作和調(diào)試也非常簡(jiǎn)便。
　　一、懸浮式高真空卷繞式鍍膜機(jī)的傳動(dòng)結(jié)構(gòu)：
　　放卷轉(zhuǎn)向?yàn)檎?br /> 　　放卷轉(zhuǎn)向?yàn)樨?fù)
　　3驅(qū)動(dòng)懸浮式高真空卷繞式鍍膜機(jī)的典型傳動(dòng)結(jié)構(gòu)，其中：
　　M1為冷卻輥，直徑恒定，由一臺(tái)FC302驅(qū)動(dòng)，冷輥的速度即為鍍膜的線速度。
　　M2為收卷輥，中心卷繞，直徑逐步變大，由一臺(tái)FC302驅(qū)動(dòng)，提供收卷張力。
　　M3為放卷輥，中心卷繞，直徑逐步變小，由一臺(tái)FC302驅(qū)動(dòng)，提供放卷張力。
　　冷卻輥和收卷輥的轉(zhuǎn)向是固定的，但是放卷輥由于卷筒卷繞方向不同，工作時(shí)有正、反兩種轉(zhuǎn)向，對(duì)應(yīng)反、正兩種轉(zhuǎn)矩。

　　真空鍍膜機(jī)傳動(dòng)系統(tǒng)的特點(diǎn)：
　　1.由于真空室狹小，無法安裝張力檢測(cè)裝置，所以收、放卷張力完全要靠收、放卷驅(qū)動(dòng)的電機(jī)直接控制。因此收、放卷驅(qū)動(dòng)器都工作于轉(zhuǎn)矩工作模式。對(duì)于較輕較薄的材料，收卷還有張力錐度功能。
　　2.由于工藝方面的原因，起主傳動(dòng)作用的冷卻輥上沒有壓輥，因此冷卻輥只能靠摩擦力帶動(dòng)薄膜；收、放卷張力相差較大時(shí)，薄膜很容易在冷卻輥上打滑。如何防止打滑是驅(qū)動(dòng)控制方面的難題。

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