電鍍設(shè)備及超聲波清洗設(shè)備的研發(fā)、設(shè)計(jì)、制造、銷售和服務(wù)為一體，電鍍是一種電化學(xué)過程，也是一種氧化還原過程.電鍍的基本過程是將零件浸在金屬鹽的溶液中作為陰極，金屬板作為陽極，接直流電源后，在零件上沉積出所需的鍍層。
例如：鍍鎳時(shí)，陰極為待鍍零件，陽極為純鎳板，在陰陽極分別發(fā)生如下反應(yīng)：
陰極(鍍件)：Ni2++2e→Ni (主反應(yīng))
2H++2e→H2↑ (副反應(yīng))
陽極(鎳板)：Ni －2e→Ni2+ (主反應(yīng))
4OH-－4e→2H2O+O2+4e (副反應(yīng))
不是所有的金屬離子都能從水溶液中沉積出來，如果陰極上氫離子還原為氫的副反應(yīng)占主要地位，則金屬離子難以在陰極上析出.根據(jù)實(shí)驗(yàn)，金屬離子自水溶液中電沉積的可能性，可從元素周期表中得到一定的規(guī)律。
陽極分為可溶性陽極和不溶性陽極，大多數(shù)陽極為與鍍層相對應(yīng)的可溶性陽極，如：鍍鋅為鋅陽極，鍍銀為銀陽極，鍍錫-鉛合金使用錫-鉛合金陽極.但是少數(shù)電鍍由于陽極溶解困難，使用不溶性陽極，如酸性鍍金使用的是多為鉑或鈦陽極.鍍液主鹽離子靠添加配制好的標(biāo)準(zhǔn)含金溶液來補(bǔ)充.鍍鉻陽極使用純鉛，鉛-錫合金，鉛-銻合金等不溶性陽極。

電鍍設(shè)備工藝要求
1、鍍層與基體金屬、鍍層與鍍層之間，應(yīng)有良好的結(jié)合力。
2、鍍層應(yīng)結(jié)晶細(xì)致、平整、厚度均勻。
3、鍍層應(yīng)具有規(guī)定的厚度和盡可能少的孔隙。
4、鍍層應(yīng)具有規(guī)定的各項(xiàng)指標(biāo)，如光亮度、硬度、導(dǎo)電性等。
5、電鍍時(shí)間及電鍍過程的溫度，決定鍍層厚度的大小。
6、環(huán)境溫度為-10℃～60℃。
7、輸入電壓為220V±22V或380V±38V。
8、水處理設(shè)備大工作噪聲應(yīng)不大于80dB(A)。
9、相對濕度(RH)應(yīng)不大于95%。
10、原水COD含量為100mg/L～150000mg/L。

有空氣存在的條件下，熔融堿可以把鎢氧化成鎢酸鹽，在有氧化劑（NaNO3、NaNO2、KClO3、PbO2）存在的情況下，生成鎢酸鹽的反應(yīng)更猛烈。高溫下能與氯、溴、碘、碳、氮、硫等化合，但不與氫化合。

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