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濺射鍍膜又分為很多種，總體看，與蒸發(fā)鍍膜的不同點在于濺射速率將成為主要參數(shù)之一。濺射鍍膜中的激光濺射鍍膜pld，組分均勻性容易保持，而原子尺度的厚度均勻性相對較差（因為是脈沖濺射），晶向（外沿）生長的控制也比較一般。
暴露在空氣中的真空鍍膜機(jī)表面容易受到污染。污染源有很多，初的污染通常是地表本身的一部分。吸附現(xiàn)象、化學(xué)反應(yīng)、浸出干燥過程、機(jī)械處理、擴(kuò)散和偏析過程都增加了各種組分的表面污染物。真空材料表面的常見污染物如下。
?、儆椭?潤滑劑、切削液、真空油脂等。在加工、組裝和操作過程中被污染;
?、谒?操作時的手汗、吹氣時的水蒸氣、唾液等。
?、郾砻嫜趸?材料長時間放置在空氣中或潮濕空氣中形成的表面氧化物;
④酸、堿、鹽類物質(zhì):清洗時的殘留物質(zhì)、手汗、水中的礦物質(zhì)等。
?、莪h(huán)境空氣中的拋光殘渣、灰塵和其他有機(jī)物等。
前期清洗真空鍍膜機(jī)可以減少很多麻煩，避免濺射鍍膜機(jī)的很多小問題，對真空鍍膜機(jī)的工作效率和鍍膜質(zhì)量有非常積極的作用。它可以大大提高真空系統(tǒng)中所有壁面和其他部件表面在各種工況下的工作穩(wěn)定性。這些工作條件包括:高溫、低溫以及電子、離子、光子或重粒子的發(fā)射和轟擊。
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