研磨介質(zhì)可用適當(dāng)?shù)奶烊簧?，也可用粒度?.1～2毫米的人造玻璃珠，目前國內(nèi)外砂磨機(jī)均已使用氧化鋯珠充當(dāng)研磨介質(zhì)，氧化鋯珠本身易清潔，硬度高，比玻璃珠及天然沙更耐磨，所以目前國內(nèi)高低檔砂磨機(jī)均使用氧化鋯珠作為研磨介質(zhì)。當(dāng)給料粒度小于450微米時(shí),排料粒度可達(dá)1微米以下。這種磨機(jī)在細(xì)化物料的同時(shí),還有分散和混合作用，適于磨制染料、顏料、油漆涂料、藥物和其他懸浮液或膠懸劑等。

運(yùn)行電流是砂磨機(jī)運(yùn)轉(zhuǎn)情況的主要考察指標(biāo)。主電機(jī)提供能量輸人，分散盤充分?jǐn)噭?dòng)研磨介質(zhì)和漿料，為其提供動(dòng)能，使?jié){料充分分散研磨，達(dá)到要求的研磨效果。在實(shí)際運(yùn)作過程中，砂磨機(jī)的運(yùn)行電流與研磨介質(zhì)和研磨料漿的質(zhì)量成正比，要砂磨機(jī)的運(yùn)行電流穩(wěn)定，就確定合理的介質(zhì)充填率、入料量和料漿黏度。

研磨介質(zhì)填充率從40%增加至75%時(shí)，運(yùn)行電流曲線呈上升趨勢(shì)，反映砂磨機(jī)中的研磨介質(zhì)得到充分?jǐn)噭?dòng)，能量需求變化大；填充率在75%-85%，運(yùn)行電流曲線變化平穩(wěn)，反映砂磨機(jī)中的介質(zhì)達(dá)到一個(gè)平衡點(diǎn)，能量需求穩(wěn)定；填充率大于85%，運(yùn)行電流曲線變化呈下降趨勢(shì)，反映砂磨機(jī)中的研磨介質(zhì)過量，研磨介質(zhì)與分散盤之間有滑動(dòng)現(xiàn)象，分散盤不能帶動(dòng)所有研磨介質(zhì)運(yùn)動(dòng)，能量需求降低。因此，根據(jù)砂磨機(jī)的電流變化曲線可知，研磨介質(zhì)適宜的填充率為80%。[1]

以達(dá)到外表平坦，使分散在液體中的固體粒子微?；?。增加反射率，發(fā)生光澤并提高遮蓋率，如油漆，油墨，色膏等。 以提高反應(yīng)速率及均勻程度，使液體中懸浮之粒子表面積增加。如在樹脂中添加粒狀之硬化劑，或化學(xué)反應(yīng)中粉粒狀之原料。延長沉淀時(shí)間，懸浮在液體中之微小粒子，達(dá)到臨時(shí)懸浮之目的，如水懸性農(nóng)藥，可增加散布面積延長藥效，或果汁如芭藥汁等等。

砂磨機(jī)目前物料適應(yīng)性廣、為、的研磨設(shè)備，研磨腔為狹窄，撥桿間隙小，研磨能量密集，配合的冷卻系統(tǒng)和自動(dòng)控制系統(tǒng)，可實(shí)現(xiàn)物料連續(xù)加工連續(xù)出料，的提高了生產(chǎn)效率。

砂磨機(jī)屬于濕法超細(xì)研磨設(shè)備，是從 球磨機(jī)發(fā)展而來。廣泛應(yīng)用油墨生產(chǎn)過程中顏料分散及研磨。砂磨機(jī)有不同的分類方式：根據(jù)攪拌軸的結(jié)構(gòu)形狀可分為盤式，棒式，棒盤式（既凸塊式）。根據(jù)研磨筒的布置形式可以分為立式，臥式。根據(jù)筒體容積大小可分為實(shí)驗(yàn)室，小型，中型，大型，超大型。根據(jù)介質(zhì)分離方式可分為靜態(tài)，動(dòng)態(tài)分離砂磨機(jī)。