真空均質(zhì)乳化機是集混合、分散、均質(zhì)、乳化及吸粉多功能于一體的成套系統(tǒng)，帶有電控系統(tǒng)，也可配合外圍油、水相罐，真空，加熱/冷卻系統(tǒng)等使用。是生產(chǎn)藥用軟膏、膏霜、乳液等的設(shè)備。

物料在均質(zhì)鍋內(nèi)通過鍋內(nèi)攪拌框上的聚四氟乙烯刮板(刮板始終迎合鍋體內(nèi)壁，掃凈掛壁粘料)，不斷產(chǎn)生新界面，再經(jīng)過框式攪拌器及與其反向的攪拌葉，將物料剪斷、壓縮、折疊，使其攪拌、混合而向下流往鍋體下方的均質(zhì)器處，再通過高速旋轉(zhuǎn)的轉(zhuǎn)子與定子之間所產(chǎn)生的強力的剪斷、沖擊、亂流等過程使物料在剪切縫中被切割，迅速破碎成200～2μm的微粒。物料微?；?、乳化、混合、調(diào)勻、分散等可于短時間內(nèi)完成。

涂料設(shè)備的主體設(shè)備為乳化分散罐、調(diào)漆罐、管線式乳化機、臥式砂磨機、粉體加料罐、靜態(tài)混合器、液體計量器、空壓機、電控裝置，灌裝機等設(shè)備組成的涂料生產(chǎn)線。

膩子粉生產(chǎn)設(shè)備是在多螺帶干粉混合機的基礎(chǔ)上，增加電動上料機、儲料罐、自動灌裝機及電控柜，從而構(gòu)成合理，操控便捷的簡易流水作業(yè)體系。

砂磨機目前物料適應(yīng)性廣、為、的研磨設(shè)備，研磨腔為狹窄，撥桿間隙小，研磨能量密集，配合的冷卻系統(tǒng)和自動控制系統(tǒng)，可實現(xiàn)物料連續(xù)加工連續(xù)出料，的提高了生產(chǎn)效率。
分散盤帶動研磨介質(zhì)高速運動而產(chǎn)生摩擦和剪切，使物料得到研磨和分散。研磨室采用強制冷卻。有臥式砂磨機及立式砂磨機之分，如圓筒形環(huán)隙式砂磨機和塔式砂磨機等。一般為濕式研磨。物料在旋轉(zhuǎn)研磨盤作用下與研磨體混合并旋轉(zhuǎn)，經(jīng)與研磨體之間及與粉碎室各部分之間產(chǎn)生的研磨、剪切而粉碎。有臥式砂磨機及立式砂磨機之分，如圓筒形環(huán)隙式砂磨機和塔式砂磨機等。一般為濕式研磨。
砂磨機是一種水平濕式連續(xù)性生產(chǎn)之超微粒分散機。將預(yù)先攪拌妥之原料送入主機之研磨槽，研磨槽內(nèi)填充適量之研磨媒體，如玻璃珠等經(jīng)由分散葉片高速轉(zhuǎn)動，賦予研磨媒體以足夠之動能，與被分散之顆粒撞擊產(chǎn)生剪力，達到分散的效果，再經(jīng)由特殊之分離裝置，將被分散物與研磨媒體分離排出。因為不必像三滾筒一樣須要高度的操作技巧，即可得到均一而優(yōu)良的品質(zhì)，又可大量連續(xù)生產(chǎn)，因此既可提又可降低成本，亦可適用于高粘度物質(zhì)之分散，因之對油漆、油墨、醫(yī)藥、食品、化妝品、農(nóng)藥等工業(yè)均可應(yīng)用。
是利用料泵將經(jīng)過攪拌機預(yù)分散潤濕處理后的固－液相混合物料輸入筒體內(nèi)，物料和筒體內(nèi)的研磨介質(zhì)一起被高速旋轉(zhuǎn)的分散器攪動，從而使物料中的固體 微粒和研磨介質(zhì)相互間產(chǎn)生更加強烈的碰撞、摩擦、剪切作用，達到加快磨細微粒和分散聚集體的目的。研磨分散后的物料經(jīng)過動態(tài)分離器分離研磨介質(zhì)，從出料管流出。臥式砂磨機特別適合分散研磨粘度高而粒度要求細的產(chǎn)品。
研磨介質(zhì)填充率從40%增加至75%時，運行電流曲線呈上升趨勢，反映砂磨機中的研磨介質(zhì)得到充分攪動，能量需求變化大；填充率在75%-85%，運行電流曲線變化平穩(wěn)，反映砂磨機中的介質(zhì)達到一個平衡點，能量需求穩(wěn)定；填充率大于85%，運行電流曲線變化呈下降趨勢，反映砂磨機中的研磨介質(zhì)過量，研磨介質(zhì)與分散盤之間有滑動現(xiàn)象，分散盤不能帶動所有研磨介質(zhì)運動，能量需求降低。因此，根據(jù)砂磨機的電流變化曲線可知，研磨介質(zhì)適宜的填充率為80%。[1]