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利用磁控反應(yīng)濺射技術(shù)制備了氮化鉭薄膜,利用TEM、XRD技術(shù)研究了薄膜的微觀結(jié)構(gòu)。研究結(jié)果表明:薄膜中多相共存;薄膜晶粒細(xì)?。ǎ保叮睿碜笥遥?;同時(shí)還發(fā)現(xiàn),在一定工作壓力下,隨著氮分壓的提高,氮化物晶粒形成的取向改變,即平行于基體表面生長的晶面會有改變。
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