Gemini 物鏡的設計結合了靜電場與磁場， 在提升光學性能的同時將它們對樣品的影 響降至低。因此，即便是要求苛刻的樣 品 —— 如磁性材料，也能進行成像。 在 Gemini 鏡筒設計理念中， Inlens 用二次 電子( SE ) 和背散射電子( BSE ) 探測器來 確保的信號檢測。

Inlens 探測器均放置 在鏡筒內正光軸上， 在減少重新校準耗時 的同時有效地縮短了獲取圖像的時間。 Gemini 電子束推進器技術可以在非常 低的加速電壓下仍獲得小束斑和高信噪比。
此外， 它確保了電子束在鏡筒中運動時始 終保持高加速電壓， 直至出鏡筒后才減速 至設定電壓， 更大程度地減小外部雜散磁 場對系統(tǒng)靈敏度的影響。GeminiSEM 360 、 GeminiSEM 460 和 GeminiSEM 560 三 者 均 應用了 Gemini 設計、 Inlens 探測器和電子 束推進器技術。

Gemini 3 型鏡筒介紹
Gemini 3 型鏡筒是專為表面靈敏成像領域 的苛刻任務而設計，它確保成像在 1 kV 至 30 kV 的所有工作條件下都能達到高分 辨率。它由兩個協(xié)同工作的組件組成，即 Nano-twin 物鏡和智能自動光路調節(jié)—— 它 們組成一個全新的電子光學引擎。 BSE 的優(yōu) 勢也可以為您提供良好的圖像襯度，讓您可 以從樣品中提取出盡可能多的信息。

智能自動光路調節(jié)優(yōu)化了通過鏡筒的電子軌 跡，從而確保了在每個加速電壓下盡可能高 的分辨率。它還引入了新的自動功能，在整 個放大倍數(shù)范圍內(從 1 倍到 2,000,000 倍) 實現(xiàn)無縫對準自由切換，并將觀察視野增 加了 10 倍，從而可以在單幅圖像中完整成 像 13 厘米的物體。GeminiSEM 560 保持了 市場上尺寸達 32k × 24k 的超大圖像存儲像素， 在大視野無畸變拼接成像方面優(yōu)勢。

全套探測系統(tǒng)： 根據(jù)出射能量和出射角選 擇性地探測樣品的電子
GeminiSEM 系列的全套探測系統(tǒng)有大量不同 的探測器可供選配。通過組合 EsB (能量選 擇背散射) 探測器、 Inlens 二次電子探測器 及 AsB (角度選擇背散射) 探測器獲取樣品 材料、表面形貌或結晶度的信息。入射電子 與樣品作用后可產生二次電子( SE ) 和背散 射電子( BSE )。從納米級樣品表面逃逸出的、 能量小于 50 eV 的二次電子可用來表征樣 品的表面形貌。這些二次電子可通過特設 計的電子束推進器向后加速進入鏡筒，并經 Gemini 物鏡投射到環(huán)形 Inlens 二次電子探測 器里。 GeminiSEM 可根據(jù)樣品的表面條件在 寬角度范圍內探測二次電子。

強化顯微鏡系統(tǒng)
蔡司顯微鏡系統(tǒng)可采用多種方式升級：開放式的升級界面讓您一直保持較高的技術水準。當新 升級的裝備付諸應用時，不僅能延長顯微鏡的使用壽命，還能提高工作效率。