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進一步為了防止在副爐室移動到取晶位的過程中，因晶棒掉落而出現(xiàn)事故，連續(xù)拉晶單晶爐還包括在副爐室移動到取晶位的過程中用于承接晶棒的電動接晶托，所述電動接晶托包括提升桿、用于承接晶棒的托板、電動推桿、接晶托電機和固定管，所述電動推桿連接在副爐室旋臂上，所述提升桿連接在電動推桿的推桿上，以便通過推桿的升降帶動提升桿升降，所述接晶托電機連接在提升桿上，所述托板連接在接晶托電機的輸出軸上，以便通過接晶托電機驅(qū)動托板旋轉(zhuǎn)，所述固定管套裝在提升桿和電動推桿的推桿的外側(cè)，所述固定管連接在副爐室旋臂上。

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基本介紹編輯1、主機部分：機架，雙立柱\雙層水冷式結(jié)構(gòu)爐體\水冷式閥座\晶體提升及旋轉(zhuǎn)機構(gòu)\坩堝提升及旋轉(zhuǎn)機構(gòu)\系統(tǒng)\真空系統(tǒng)及自動爐壓檢測控制\水冷系統(tǒng)及多種安全保障裝置\留有二次加料口2、加熱器電源：全水冷電源裝置采用專利電源或原裝進口IG及超快恢復(fù)二極管等功率器件。配以高頻變壓器，構(gòu)成新一代高頻開關(guān)電源。采用移相全橋軟開關(guān)（ZVS）及CPU控制技術(shù)，提高了電能轉(zhuǎn)換效率，不需要功率因數(shù)補償裝置。3、計算機控制系統(tǒng)：采用PLC和上位工業(yè)平板電腦PC機，配備大屏幕觸摸式HMI人機界面、高像素CCD測徑ADC系統(tǒng)和具有知識產(chǎn)權(quán)的“全自動CZ法晶體生長SCADA監(jiān)控系統(tǒng)”，可實現(xiàn)從抽真空—檢漏—爐壓控制—熔料—穩(wěn)定—溶接—引晶—放肩—轉(zhuǎn)肩—等徑—收尾—停爐全過程自動控制。分子泵回收，真空泵回收，真空流量計回收，plc編程回收，控制屏回收，離子泵回收，渦輪分子泵回收，螺桿真空泵回收，渦旋高真空泵回收，整個爐內(nèi)的一氧化硅與的混合氣體(包 括坩堝支持器下方的混合氣體)能通暢地排出爐外，整個爐內(nèi)不存在排氣 不暢的地方，即不存在排氣死角，既有效地防止了一氧化硅氣體對加熱器 和坩堝支持器等石墨器件的腐蝕，還可使吸附在這些石墨器件上的雜質(zhì)粉 塵減少30%以上，從而確保了該爐的使用壽命，使所述石墨器件的使用壽 命從原來的90爐次提高11G爐次以上，另外還可對硅晶體的生長過程起 到穩(wěn)定作用，使平均成品率從原來的65%提高68%以上，并可提高單晶 的內(nèi)在質(zhì)量。本發(fā)明的氣流導(dǎo)向裝置的一對通氣孔與該爐的 一對排氣口相 對設(shè)置，縮短了排氣管路，利于提高排氣效率。