真空度低解決方法：清潔真空室內的送鋁、蒸鍍裝置、冷卻系統(tǒng)、放卷、卷取裝置及導輥；檢查抽真空系統(tǒng)；降低環(huán)境濕度。 ②薄膜釋放氣體 解決方法：薄膜預干燥；延長抽真空時間。 ③噴鋁過多解決方法：提高車速；降低蒸發(fā)舟電流；降低送鋁速度。 ④蒸發(fā)舟內有雜質 解決方法：清潔蒸發(fā)舟及熱屏蔽板。 ⑤蒸發(fā)舟老化 解決方法：更換蒸發(fā)舟。 補充： 以上不知道有沒有幫助。鍍鋁發(fā)霧的問題我就不知道了，不好意思。 追問： 不好意思，我沒有說你才疏學淺的意思- -#，我意思說就像發(fā)黃的原因有：1, 真空度過低;延長抽真空時間 2, 鍍膜時有其他放氣源影響鍍膜效果,比如夾具或膠紙 3，鍍膜時間過長；噴鋁過多 4，鍍膜電流過高

3. 開維持泵、真空計電源，真空計檔位置V1位置，等待其值小于10后，再進入下一步操作。約需5分鐘。
4. 開機械泵、予抽，開渦輪分子泵電源、啟動，真空計開關換到V2位置，抽到小于2為止，約需20分鐘。
5. 觀察渦輪分子泵讀數(shù)到達250以后，關予抽，開前機和
高閥繼續(xù)抽真空，抽真空到達一定程度后才能開右邊的高真空表頭，觀察真空度。真空到達2×10-3以后才能開電子槍電源。 1. 總電源。
2. 同時開電子槍控制Ⅰ和電子槍控制Ⅱ電源：按電子槍控制Ⅰ電源、延時開關，延時、電源及保護燈亮，三分鐘后延時及保護燈滅，若后門未關好或水流繼電器有故障，保護燈會常亮。
3. 開高壓，高壓會達到10KV以上，調節(jié)束流可到200mA左右，簾柵為20V/100mA，燈絲電流1.2A，偏轉電流在1~1.7之間擺動。 1. 關高真空表頭、關分子泵。
2. 待分子泵顯示到50時，依次關高閥、前級、機械泵，這期間約需40分鐘。

真空蒸發(fā)鍍膜設備主要用于在經予處理的塑料、陶瓷等制品表面蒸鍍金屬薄膜（鍍鋁、鉻、錫、不銹鋼等金屬）、七彩膜仿金膜等,從而獲得光亮、美觀、的塑料,陶瓷表面金屬化制品。廣泛應用于工藝美術、裝璜裝飾、燈具、家具、玩具、酒瓶蓋、女式鞋后跟等領域,
JTPZ多功能鍍膜技術及設備（加有射頻等離子體聚合的蒸發(fā)鍍膜機），針對汽車、摩托車燈具而設計的，在一個真空室內完成蒸發(fā)鍍鋁和射頻等離子體鍍保護膜，這種鍍膜后燈具具有“三防”功能。射頻等離子體聚合膜還應用于光學產品、磁記錄介質、軍事保護膜；防潮增透膜；防銹抗腐蝕；耐磨增硬膜。

離子滲氮：可以在輝光放電條件下，將N、C等元素滲入到零件和模具內部、明顯提高表面硬度、抗疲勞等性能和耐腐蝕性，相對于總體滲氮處理時間短、濕度低、變形小、表面性能可控，可用于各種鋼鐵及鈦合金結構件，各種模具和各種不銹鋼制品。
等離子體化學氣相沉積設備與技術(離子滲氮，氮碳共滲)
等離子體化學氣相沉積（PCVD）是一種新型的脈沖直流等離子體輔助沉積硬質鍍膜新技術。在一定壓力、溫度的真空爐內，加入適當比例的不同工作氣體，在脈沖電壓的作用下，通過輝光放電產生均勻等離子體。在不同工藝條件下，可在被處理工件表面形成各種硬質膜如TiN、TiC、TiCN、(Ti、Si)N、(Ti、Si)CN及多層復合膜等，顯微硬度高達HV2000--2500。

1）所需設備：CCZK-1850SFL連續(xù)式磁控鍍膜流水線
　　2) 獲得膜層：一層或多層金屬，合金或金屬化合物膜層
　　3）涂裝流程： 玻璃產品的前處理清洗過程---進片上線臺---粗抽室---過渡室---精抽室---緩沖室---鍍膜室---后緩沖---精抽室---過渡室---粗抽室---出片下線臺---淋漆流水線（如果需要）---包裝成品
　　4）基本配置：
　　1.腔體結構：采用的臥式連續(xù)磁控鍍膜流水線，配備前后粗抽室，前后過渡室，前后精抽室，前后緩沖室，彩鍍室。
　　2.腔體材質：碳鋼
　　3.靶材設計：采用新型旋極靶材以及平面陰極靶材。
　　4.電源配置：配備大功率中頻或直流磁控濺射電源
　　5.電氣控制：生產線采用PLC全過程控制，配備工業(yè)計算機人機交互系統(tǒng)，快速的節(jié)拍設計。
　　6.人機對話：控制系統(tǒng)能實現(xiàn)人、機對話，及時對生產過程進行必要干預。運行過程有報警提示和故障顯示，故障顯示能提示操作人員正確的操作和排故。
　　7.傳動系統(tǒng)：滾軸傳動，變頻可調
　　8.可鍍膜玻璃或平板,尺寸可定制
　　9. 生產線安采用了的插板閥進行腔室隔斷，可以實現(xiàn)有效隔斷，穩(wěn)定工藝氣體。
　　10.生產線采用了均勻進氣管結構設計，氣流注入均勻平緩；
　　11.泵抽系統(tǒng)：擴散泵組或分子泵組+機械泵+羅茨泵
　　5）需求配套設施：

直接的鍍膜控制方法是石英晶體微量平衡法(QCM)，這種儀器可以直接驅動蒸發(fā)源，通過PID控制循環(huán)驅動擋板，保持蒸發(fā)速率。只要將儀器與系統(tǒng)控制軟件相連接，它就可以控制整個的鍍膜過程。但是(QCM)的度是有限的，部分原因是由于它監(jiān)控的是被鍍膜的質量而不是其光學厚度。
? ? 此外雖然QCM在較低溫度下非常穩(wěn)定，但溫度較高時，它會變得對溫度非常敏感。在長時間的加熱過程中，很難阻止傳感器跌入這個敏感區(qū)域，從而對膜層造成重大誤差。
? ? 光學監(jiān)控是高精密鍍膜的的監(jiān)控方式，這是因為它可以更地控制膜層厚度(如果運用得當)。度的改進源于很多因素,但根本的原因是對光學厚度的監(jiān)控。
? ? OPTIMAL SWA-I-05單波長光學監(jiān)控系統(tǒng)，是采用間接測控，結合汪博士開發(fā)的光學監(jiān)控軟件，有效提高光學反應對膜厚度變化靈敏度的理論和方法來減少誤差，提供了反饋或傳輸?shù)倪x擇模式和大范圍的監(jiān)測波長。特別適合于各種膜厚的鍍膜監(jiān)控包括非規(guī)整膜監(jiān)控。