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因此,在向單晶爐內(nèi)不斷充入 的同時,還用真空泵將混合氣體排出爐外;在排氣時,混合氣體流經(jīng) 爐中的加熱器、坩堝支持器等處,后經(jīng)過爐下端的排氣口排出。上述圖1的單晶爐的不足之處在于單晶爐內(nèi)空間較大,尤其是坩堝 支持器下方的空間較大,導致坩堝支持器下方的混合氣體不能及時排出, 熱能消耗量較大;另外,現(xiàn)有技術中,從輸入管向爐內(nèi)充入時, 充氣氣壓為1. 3x 103pa,流量為40L/min,因此其消耗量大,生產(chǎn) 成本較高。藍寶石長晶爐回收,多晶硅鑄錠爐回收,提拉式長晶爐回收,多晶長晶爐回收,臥式長晶爐回收,拉式單晶爐、收購直拉式單晶爐-85型/90型/95型/100型種種整套單晶回收提爐裝備、分子泵回收,真空泵回收,真空流量計回收,plc編程回收,控制屏回收,離子泵回收,渦輪分子泵回收,螺桿真空泵回收,渦旋高真空泵回收,單晶爐提拉速度控制系統(tǒng)的設計與分析1 引 言半導體材料是半導體工業(yè)的基礎材料 ,其中用量和用途廣泛的是半導體硅。當今 95%以上的半導體器件是用硅材料制造的 ,99%以上的集成電路是硅集成電路 ,生產(chǎn)集成電路所需要的單晶硅 ,是在硅結(jié)晶生長開始時 ,用提拉的辦法制成的。在單晶硅生產(chǎn)過程中 ,對晶體的提拉速度有十分嚴格的要求 ,從某種程度上講提拉速度的控制好壞將直接影響到晶體的質(zhì)量。對單晶硅生產(chǎn)過程中的提拉速度控制系統(tǒng)進行研究有實際意義。圖 1示出了單晶爐提拉速度控制系統(tǒng)在單晶硅生產(chǎn)中的作用。提拉桿的運動是靠驅(qū)動電機通過減速器 ,再由齒輪齒條機構(gòu)帶動的。在單晶爐中 ,要求提拉單晶硅的提拉桿不僅能以某一期望線速度 V向上 (下 )運動 ,而且當提拉負載增大引起線速度為零時 ,提拉桿能保持其后位置而不上下滑動。在實際單晶爐中 ,對提拉控制系統(tǒng)提出的主要技術指標是 ,提拉速度在 0 .2~ 1 0 .0 mm/h范圍之內(nèi)實現(xiàn)無級可調(diào) ,線性精度大于± 2 %

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中頻電爐設備主要應用領域: 1、機床導軌的淬火處理; 2、煤礦用截齒的焊接;礦山用一字釬頭和梅花釬頭的焊接; 4、直徑30以下螺栓的熱變形; 5、直徑30以下的螺母的熱變形; 6、金屬粉末重熔; 7、直徑300以下鏈輪的熱處理; 8、直徑80以下軸的淬火處理; 9、直徑80以下工件的橫截面處理; 10、各種手工工具的淬火處理(錘子,斧頭,管鉗,斷線鉗); 11、各種汽車工具的熱變形(如套筒扳手); 12、汽車、托車零部件的局部熱處理; 13、各種機械零部件的的局部熱處理(需廠家提供圖紙及技術要求)。