電子束蒸發(fā)鍍膜設(shè)備：此設(shè)備多數(shù)應(yīng)用于各種化合物及金屬鍍料；可鍍制多層精密光學(xué)膜，如AR膜、長波通、短波通、增亮膜、AS/AF膜、IRCUT、彩色膜系、漸變膜系等。已經(jīng)廣泛應(yīng)用在手機(jī)玻璃蓋板、攝像頭、眼鏡片、光學(xué)鏡頭、游泳鏡、滑雪防護(hù)鏡、PET膜片、PMMA、光變磁性薄膜、防偽、化妝品等多種產(chǎn)品，有這樣需要的人們可以認(rèn)證這個(gè)鍍膜設(shè)備。

連續(xù)性鍍膜生產(chǎn)線，該設(shè)備主要應(yīng)用在汽車行業(yè)的車標(biāo)鍍膜，汽車塑膠飾件、電子產(chǎn)品外殼等產(chǎn)品。它的優(yōu)點(diǎn)在于鍍膜線的鍍膜室長期處于高真空狀態(tài)，雜氣少、膜層純凈度高，折射率好；配置了全自動(dòng)Speedflo閉環(huán)控制系統(tǒng)，提高膜層沉積速率，生產(chǎn)過程有全程監(jiān)控，方便快速的追蹤生產(chǎn)不良，設(shè)備自動(dòng)化高，可以配合機(jī)械手臂完成工序，降低了人工成本。

真空鍍膜機(jī)主要指一類需要在較高真空度下進(jìn)行的鍍膜，具體包括很多種類，包括真空離子蒸發(fā)，磁控濺射，MBE分子束外延，PLD激光濺射沉積等很多種。主要思路是分成蒸發(fā)和濺射兩種。真空鍍膜機(jī)主要應(yīng)用范圍很廣。低真空表“2”內(nèi)指針順時(shí)針移動(dòng)，當(dāng)指針移動(dòng)至110mA時(shí)，左旋鈕"1"旋轉(zhuǎn)至指向2區(qū)段測量位置。當(dāng)高壓真空表“5”內(nèi)指針逆時(shí)針移動(dòng)超過6.7Pa時(shí)，開工件旋轉(zhuǎn)鈕開關(guān)，鐘罩內(nèi)被鍍件PVDF膜轉(zhuǎn)動(dòng)。

鍍后處理

1、鈍化處理

所謂鈍化處理是指在一定的溶液中進(jìn)行化學(xué)處理，在鍍層上形成一層堅(jiān)實(shí)致密的、穩(wěn)定性高的薄膜的表面處理方法.鈍化使鍍層耐蝕性大大提高并能增加表面光澤和抗污染能力。這種方法用途很廣，鍍Zn、Cu及Ag等后，都可進(jìn)行鈍化處理。

2、除氫處理

有些金屬如鋅，在電沉積過程中，除自身沉積出來外，還會(huì)析出一部分氫，這部分氫滲入鍍層中，使鍍件產(chǎn)生脆性，甚至斷裂，稱為氫脆。為了消除氫脆，往往在電鍍后，使鍍件在一定的溫度下熱處理數(shù)小時(shí)，稱為除氫處理。

真空鍍膜技術(shù)所使用的原材料非常廣泛，主要有單質(zhì)元素、化合物、無機(jī)材料或有機(jī)材料等。真空鍍膜技術(shù)主要有氣相生成法、氧化法、擴(kuò)散法、電鍍法、離子注入法等。其中，氣相生成法又可分為物理氣相沉積法（PVD）、化學(xué)氣相沉積法（CVD）和放電聚合法等。真空鍍膜技術(shù)只有通過真空鍍膜設(shè)備才能實(shí)現(xiàn)，根據(jù)真空鍍膜技術(shù)的不同，大致可分為PVD鍍膜設(shè)備、CVD鍍膜設(shè)備、磁控濺射鍍膜設(shè)備等。

回收二手大型設(shè)備也減少了廢棄物的產(chǎn)生。廢棄設(shè)備往往難以處理，長期堆放會(huì)造成地下水和土壤的污染，對環(huán)境帶來嚴(yán)重?fù)p害。通過回收廢棄設(shè)備，可以避免這些問題的發(fā)生，大限度地減少廢棄物的產(chǎn)生。