美國光刻膠光刻膠電子束膠ZEP542A半導體材料耐腐蝕
廈門光刻膠 美國光刻膠
?耐腐蝕性?:具有耐干腐蝕特性(同類產(chǎn)品ZEP547A參數(shù)參考)
?分辨率?:作為電子束膠通??蛇_納米級分辨率
?抗蝕刻性?:適用于后續(xù)刻蝕工藝
?旋涂條件?:根據(jù)同類產(chǎn)品推測,可能采用分段旋涂工藝(低速鋪展+高速成膜)
?顯影條件?:需使用顯影液,具體參數(shù)未明確
半導體制造中的電子束光刻工藝
微納結構制作
科研實驗中的納米級圖案化
2D材料集成器件制造
標簽:美國光刻膠光刻膠
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