電鍍設(shè)備工藝要求
1、鍍層與基體金屬、鍍層與鍍層之間，應(yīng)有良好的結(jié)合力。
2、鍍層應(yīng)結(jié)晶細致、平整、厚度均勻。
3、鍍層應(yīng)具有規(guī)定的厚度和盡可能少的孔隙。
4、鍍層應(yīng)具有規(guī)定的各項指標，如光亮度、硬度、導(dǎo)電性等。
5、電鍍時間及電鍍過程的溫度，決定鍍層厚度的大小。
6、環(huán)境溫度為-10℃～60℃。
7、輸入電壓為220V±22V或380V±38V。
8、水處理設(shè)備大工作噪聲應(yīng)不大于80dB(A)。
9、相對濕度(RH)應(yīng)不大于95%。
10、原水COD含量為100mg/L～150000mg/L。

綠色環(huán)保產(chǎn)業(yè)是必然的發(fā)展趨勢，造成嚴重污染的化學(xué)電鍍終會退出歷史舞臺，取而代之的是環(huán)保電鍍設(shè)備。我們公司及時掌握行情走向，不斷引進環(huán)保、、的設(shè)備。

高頻電鍍設(shè)備是一種非常昂貴的設(shè)備，高頻電鍍設(shè)備的分類方法主要從滑環(huán)原理方面來分類的，從電鍍原理可知，電鍍電源一定是直流電源或脈沖電源。各類鍍槽對電源的要求也不太相同，電鍍時滑環(huán)的電流、電壓的應(yīng)控制在一定的誤差范圍內(nèi)。
水電鍍工藝是指在電鍍流程中需要對電鍍鍍件進行漂洗工序的電鍍類型。電鍍電源主要是將工頻交流電變換為不同電壓、頻率和波形的直流電設(shè)備。在晶閘管整流器中主要應(yīng)用“整流”技術(shù)，在高頻開關(guān)電源中既應(yīng)用“整流”技術(shù)又應(yīng)用“逆變”技術(shù)。