日本進(jìn)口高純度鉭靶Ta靶4N
·用于薄膜形成的材料
- PVD材料
·濺射靶材（溶解工序品、燒結(jié)工序品）
·蒸鍍材料
- CVD材料
·用于層間絕緣膜形成的材料（TEOS、TMB、TMP、TEB、TMOP、TEOP、etc.）
·ALD材料（3DMAS、TDMAH、Taimata、TEMAZr、etc.）
·高/強(qiáng)誘電體、電極形成用材料（PET、HTB、etc.）
- CSD材料（MOD涂層、液化凝膠涂層）
·無機(jī)材料
- 金屬材料（粉碎加工品、霧化粉末、其它）
- 無機(jī)化合物（氧化物、氮化物、硫化物、鹵化物、其它）
-Smartec系列產(chǎn)品（特定溫度保溫材料、熱膨脹抑制劑）
高純度金屬 Al, Co, Cu, Fe, Mg, Mn, Sn
高熔點(diǎn)金屬合金 Cr,Mo,Nb,Ta,Ti,V,W系列的合金
非磁性合金 Al, Bi, Cu, Mg, Sn, Zn系列的合金/ Bi2Te3, Mg2Si
磁性合金 Co, Fe, Ni系列的合金/ Co-Fe-B, Co-Pt, Fe-Pt
赫斯勒合金 Co, Fe, Ni基赫斯勒合金
Mn系列的合金 Mn-Al, Mn-Bi, Mn-Ga, Mn-Ir, Mn-Si
貴金屬合金 Au,Ag,Pt,Pd系列的合金</a>
標(biāo)簽：鉭靶Ta靶
