電子束蒸發(fā)鍍膜設(shè)備：此設(shè)備多數(shù)應(yīng)用于各種化合物及金屬鍍料；可鍍制多層精密光學(xué)膜，如AR膜、長波通、短波通、增亮膜、AS/AF膜、IRCUT、彩色膜系、漸變膜系等。已經(jīng)廣泛應(yīng)用在手機(jī)玻璃蓋板、攝像頭、眼鏡片、光學(xué)鏡頭、游泳鏡、滑雪防護(hù)鏡、PET膜片、PMMA、光變磁性薄膜、防偽、化妝品等多種產(chǎn)品，有這樣需要的人們可以認(rèn)證這個(gè)鍍膜設(shè)備。

真空鍍膜機(jī)主要指一類需要在較高真空度下進(jìn)行的鍍膜，具體包括很多種類，包括真空離子蒸發(fā)，磁控濺射，MBE分子束外延，PLD激光濺射沉積等很多種。主要思路是分成蒸發(fā)和濺射兩種。真空鍍膜機(jī)主要應(yīng)用范圍很廣。低真空表“2”內(nèi)指針順時(shí)針移動(dòng)，當(dāng)指針移動(dòng)至110mA時(shí)，左旋鈕"1"旋轉(zhuǎn)至指向2區(qū)段測量位置。當(dāng)高壓真空表“5”內(nèi)指針逆時(shí)針移動(dòng)超過6.7Pa時(shí)，開工件旋轉(zhuǎn)鈕開關(guān)，鐘罩內(nèi)被鍍件PVDF膜轉(zhuǎn)動(dòng)。

真空鍍膜技術(shù)所使用的原材料非常廣泛，主要有單質(zhì)元素、化合物、無機(jī)材料或有機(jī)材料等。真空鍍膜技術(shù)主要有氣相生成法、氧化法、擴(kuò)散法、電鍍法、離子注入法等。其中，氣相生成法又可分為物理氣相沉積法（PVD）、化學(xué)氣相沉積法（CVD）和放電聚合法等。真空鍍膜技術(shù)只有通過真空鍍膜設(shè)備才能實(shí)現(xiàn)，根據(jù)真空鍍膜技術(shù)的不同，大致可分為PVD鍍膜設(shè)備、CVD鍍膜設(shè)備、磁控濺射鍍膜設(shè)備等。